等离子抛光技术是目前进的表面微观整平技术之一,可以在较短时间内实现对样件表面粗糙度的---下降。该技术利用离子放电原理,使放电通道更多的是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,实现表面微观整平。抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,使得放电通道更多选择在凸起的位置形成,粗糙度下降速度快。但随着抛光时间的延长,粗糙度下降的速度逐渐减缓。离子抛光技术是现代制造业中不可或缺的重要技术,为提高产品提供了强有力的保障。
在高温电流的作用下,电解质水产生电离子,分离化学液态电浆,利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子,等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化,其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程,其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质,这些中性物质称其为自由基,与原来的气体分子相比,这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理,还包含物理方法的去除原理,但主要的还是气相化学反应去除原理。
等离子抛光大部分材质的浓度大概在4%左右,如不锈钢、铜、锌合金,但有些材质浓度额不一样,如锌合金、铝合金、金银等。一般情况4%相差不大都0k。抛光液浓度也会影响抛光电流、整体是浓度越高、电流会降低一些,但不能盲目增加抛光液浓度。一是生产抛光盐的成本会增加,二是当浓度达到一个范围后就会影响抛光、所以不能盲目增加抛光液浓度、不然会适得其反。
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