电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象,定时测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理---为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内,因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,但是在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正点的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光技术采用的是无污染的等离子体进行表面处理,会产生相对电解极低废气、废水和废物,通过简单处理即可达标、具有---的性。与传统的化学抛光相比,它可以有效避免化学废液对环境的污染和危害。此外,等离子抛光技术还可以减少机械抛光过程中的摩擦和热量,降低材料的损伤和变形。等离子抛光技术适用于多种材料的表面处理,只针对金属、。它可以处理各种形状和尺寸的工件,包括平板、弯曲、薄膜和微细结构等、不限形状。
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